若化学镀镍废液中的镍及大部分有机酸被沉淀除去后,废液中的COD达不到排放标准时,废液还需要进行深度处理,在pH值大于9的条件下,通入Cl?,此时Cl2主要以CLO-的形式存在,具有较强的氧化能力,若在废液中加入少量的铜离子作为催化剂时,废液可以得到深度处理,COD很容易降低到(100mg/L)直接排放的标准。同时有机酸可以氧化为CO2和水,次磷酸盐和亚磷酸盐也容易氧化为磷酸盐,磷酸盐容易发生沉淀反应而除去。
化学镀镍合金以其优良的工艺性能,物理化学和力学性能广泛的应用于电子产品机壳、框架等零件的电磁屏蔽上,提高电子产品的电磁兼容性能。因此,化学镀镍合金的电镀工艺具有巨大的社会和经济价值。
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在人类进入信息化的今天,电磁波作为一种资源已在0HZ~400GHZ的宽频范围内广泛的应用在电子设备中,随之而来的电磁干扰也就从低频到微波波段,无孔不入的辐射或传导给运行中的设备和周围的环境,严重影响着它们的正常工作,同时,电子设备之间也会相互干扰。不仅如此,电子设备产生的电磁辐射还对人类健康产生危害。
电磁污染已经成为人们日常生活中不可忽视的问题,各国政府都在制订严格的法规限制来自电子和电磁仪器的电磁干扰。也在积极研究一些电磁屏蔽的方法来屏蔽电磁干扰,电磁屏蔽就是以金属隔离的原理来控制电磁波由一个区域向另外一个区域感应或传播的方法。
目前电磁屏蔽的方法一般采用在电子设备的外壳上使用金属外罩、屏蔽镀层、真空淀积金属等方式,其中以采用屏蔽镀层的方式成本较低、工艺简单、屏蔽效果好。
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